先發(fā)表論文或成果鑒定再申請(qǐng)專利可以嗎
專利申請(qǐng)?zhí)柌皇菍＠?hào)。一個(gè)是申請(qǐng)中的，一個(gè)是申請(qǐng)后的。
申請(qǐng)?zhí)柺侵冈趯＠暾?qǐng)人向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提出專利申請(qǐng)，國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局給予專利申請(qǐng)受理通知書，并給予專利的申請(qǐng)?zhí)枴?專利號(hào)是在授予專利權(quán)時(shí)給出的編號(hào)，是文獻(xiàn)號(hào)的一種。文獻(xiàn)號(hào)是各工業(yè)產(chǎn)權(quán)局在公布專利文獻(xiàn)（包括公開出版和僅提供閱覽復(fù)制）時(shí)編制的序號(hào)。專利申請(qǐng)人獲得專利權(quán)后，國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局頒發(fā)的專利證書上專利號(hào)為：ZL（專利的首字母）+申請(qǐng)?zhí)?。若一個(gè)專利在申請(qǐng)中，但是卻在申請(qǐng)?zhí)柷凹由蟌L字母（使消費(fèi)者誤以為是授權(quán)專利），屬于假冒專利行為，工商行政部門會(huì)依法給予查處。
專利申請(qǐng)?zhí)柛袷剑簢?guó)家代碼+專利申請(qǐng)?zhí)柧幋a（申請(qǐng)+專利申請(qǐng)種類號(hào)+申請(qǐng)流水號(hào)）+校驗(yàn)位。
四個(gè)部分，具體如下：
一、申請(qǐng)表示專利申請(qǐng)的受理年份；
二、專利申請(qǐng)號(hào)中的申請(qǐng)種類號(hào)用1位數(shù)字表示，不同的種類號(hào)，對(duì)應(yīng)不同的專利申請(qǐng)類型：
“1”表示發(fā)明專利申請(qǐng)；
“2”表示實(shí)用新型專利申請(qǐng)；
“3”表示外觀設(shè)計(jì)專利申請(qǐng)；
“8”表示進(jìn)入中國(guó)國(guó)家階段的PCT發(fā)明專利申請(qǐng)；
“9”表示進(jìn)入中國(guó)國(guó)家階段的PCT實(shí)用新型專利申請(qǐng)。
三、流水號(hào)用7位連續(xù)數(shù)字表示，一般按照升序使用，例如從0000001開始，順序遞增，直至9999999。每一自然年度的專利申請(qǐng)?zhí)栔械纳暾?qǐng)流水號(hào)重新編排，即從每年1月1日起，新發(fā)放的專利申請(qǐng)?zhí)栔械纳暾?qǐng)流水號(hào)不延續(xù)上一年度所使用的申請(qǐng)流水號(hào)，而是從0000001重新開始編排。
四、校驗(yàn)位由一個(gè)標(biāo)點(diǎn)符號(hào)的“.”和一位數(shù)字或字母組成。它的作用主要是校驗(yàn)整個(gè)申請(qǐng)?zhí)柕恼_性。
例如，申請(qǐng)?zhí)枮?01710287887 .0的申請(qǐng)，根據(jù)上述可知，是一件2017年受理的發(fā)明專利申請(qǐng)。
一、專利申請(qǐng)的種類
專利的申請(qǐng)需要一定的流程，內(nèi)容不同，類型不同，本文將對(duì)專利申請(qǐng)進(jìn)行簡(jiǎn)單的描述。
專利申請(qǐng)的類型
我國(guó)專利申請(qǐng)有三種類型，如下:
(一)發(fā)明專利:是指對(duì)產(chǎn)品、方法或者其改進(jìn)所提出的新的技術(shù)方案。
(二)實(shí)用新型專利:是指對(duì)產(chǎn)品的形狀、構(gòu)造或者其結(jié)合所提出的適于實(shí)用的新的技術(shù)方案。
(三)外觀設(shè)計(jì)專利:是指對(duì)產(chǎn)品的形狀、圖案或者其結(jié)合以及色彩與形狀、圖案的結(jié)合所作出的富有美感并適于工業(yè)應(yīng)用的新設(shè)計(jì)
不同專利申請(qǐng)的類型的區(qū)別如下:
1、專利授權(quán)時(shí)間:發(fā)明專利授予專利權(quán)通常需要的時(shí)間為3年左右。實(shí)用新型專利授予專利權(quán)通常需要的時(shí)間為1年左右。外觀設(shè)計(jì)專利授予專利權(quán)通常需要的時(shí)間為8個(gè)月左右。
2、專利權(quán)的保護(hù)期限:發(fā)明專利的保護(hù)期限是20年。實(shí)用新型專利的保護(hù)期限是10年。外觀設(shè)計(jì)專利的保護(hù)期限是10年。
二、不同專利申請(qǐng)類型如何申請(qǐng)
申請(qǐng)專利需要提供的資料:
1、發(fā)明創(chuàng)造名稱:名稱應(yīng)簡(jiǎn)單、明確地反映發(fā)明創(chuàng)造的主題和類型。
2、背景技術(shù):與本發(fā)明創(chuàng)造最相接近的現(xiàn)有技術(shù)的情況。
3、發(fā)明創(chuàng)造的技術(shù)方案:產(chǎn)品類的發(fā)明創(chuàng)造:結(jié)合附圖，清楚、完整地寫明各部件名稱，及其相互之間的聯(lián)接關(guān)系，并說(shuō)明其工作過(guò)程，所提供方案以本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)為準(zhǔn);電子類的發(fā)明創(chuàng)造:提供電路圖或框圖，并結(jié)合圖中各電子器件或模塊說(shuō)明其原理;方法類的發(fā)明創(chuàng)造:包括加工工藝、化工產(chǎn)品、藥品、食品等，應(yīng)詳細(xì)地說(shuō)明其加工工藝步驟及工藝條件的限定，并根據(jù)需要提供相應(yīng)的工藝流程圖;對(duì)于計(jì)算機(jī)、通訊等領(lǐng)域涉及的方法發(fā)明創(chuàng)造，則應(yīng)提供該方法的處理過(guò)程，并根據(jù)需要提供其流程圖。
4、發(fā)明創(chuàng)造的有益效果和優(yōu)點(diǎn):描述本發(fā)明創(chuàng)造與現(xiàn)有技術(shù)對(duì)比所具有的積極的效果和優(yōu)點(diǎn)，且所述的優(yōu)點(diǎn)和效果是由于采用了發(fā)明創(chuàng)造的技術(shù)方案而直接獲得的。
5、附圖說(shuō)明:如果有附圖，附圖應(yīng)按機(jī)械制圖標(biāo)準(zhǔn)繪制。
6、實(shí)施例:產(chǎn)品類和電子類的發(fā)明創(chuàng)造:實(shí)施例是實(shí)現(xiàn)發(fā)明創(chuàng)造的一種或多種具體設(shè)計(jì)方案，如果提供有附圖，該部分應(yīng)結(jié)合附圖進(jìn)行說(shuō)明，并將附圖中的標(biāo)號(hào)標(biāo)注在相應(yīng)的零件之后，可以根據(jù)需要說(shuō)明其功能、動(dòng)態(tài)構(gòu)造、工作原理和使用方法等。方法類的發(fā)明創(chuàng)造:應(yīng)詳細(xì)說(shuō)明其工藝過(guò)程、操作步驟和具體的工藝參數(shù)等，通常應(yīng)該供多種工藝參數(shù)結(jié)合的實(shí)施例方案;對(duì)于計(jì)算機(jī)、通訊等領(lǐng)域涉及的方法發(fā)明創(chuàng)造，則應(yīng)結(jié)合流程圖等提供該方法的詳細(xì)的具體實(shí)現(xiàn)的方案，可以提供多種方案。
以上所提及的都是有關(guān)專利申請(qǐng)的法律知識(shí)，從中可以知道專利申請(qǐng)有三種類型，分別為發(fā)明專利、實(shí)用新型專利和外觀設(shè)計(jì)專利，而不同類型的專利申請(qǐng)所需提供的材料也不同，因此申請(qǐng)人在申請(qǐng)專利之前要了解一下相關(guān)規(guī)定，并且不少企業(yè)在專利申請(qǐng)過(guò)程中仍存在誤區(qū)。
誤區(qū)一 技術(shù)方案交待不清楚
很多人提交的專利申請(qǐng)文件非常簡(jiǎn)單，有的甚至只有幾句話，技術(shù)方案完全沒有交待清楚，這給專利代理人制作正式專利申請(qǐng)文件帶來(lái)很大困難。
在要求發(fā)明人提供更多的技術(shù)方案時(shí)，他們會(huì)以技術(shù)保密為由回避。
這些發(fā)明人其實(shí)就是沒有把握好保密與公開的度。
他們過(guò)度地要求保密，害怕多透露一點(diǎn)技術(shù)信息，而恰恰是這種“過(guò)度”忽視了技術(shù)方案交待不清楚，公開不充分的問(wèn)題。
誤區(qū)二 專利申請(qǐng)前不做任何檢索
有些發(fā)明人提交的專利申請(qǐng)文件沒有做查新檢索，對(duì)技術(shù)方案的新穎性如何不確定。
甚至根本不知道其技術(shù)方案有沒有公開過(guò)或公開使用過(guò)，這也是一個(gè)非常普遍的現(xiàn)象。
全世界范圍內(nèi)的任何文獻(xiàn)都可影響技術(shù)方案的新穎性。但在使用方面，只有國(guó)內(nèi)的使用才影響技術(shù)方案的新穎性。
誤區(qū)三 先發(fā)表論文或成果鑒定再申請(qǐng)專利
有些發(fā)明人取得研究成果后急于發(fā)表文章或成果鑒定，而沒有想到先申請(qǐng)專利保護(hù)。
由于發(fā)表文章或成果鑒定不可避免地要公開技術(shù)內(nèi)容，使專利申請(qǐng)失去新穎性而得不到保護(hù)。
誤區(qū)四 對(duì)專利缺乏有效的管理
有些企業(yè)申請(qǐng)了很多專利，但無(wú)專人管理。
專利文件之間有的互相沖突，有的已無(wú)市場(chǎng)價(jià)值還在交納年費(fèi)。
有的專利權(quán)已經(jīng)遭受侵犯但企業(yè)管理者對(duì)專利特征不了解，不能及時(shí)提起訴訟。
誤區(qū)五 缺乏長(zhǎng)遠(yuǎn)的專利戰(zhàn)略規(guī)劃
有計(jì)劃地實(shí)施專利戰(zhàn)略對(duì)企業(yè)來(lái)說(shuō)非常重要，可以避免時(shí)間和精力的浪費(fèi)。
一些企業(yè)毫無(wú)目的的申請(qǐng)大量專利，結(jié)果導(dǎo)致授權(quán)率低，并產(chǎn)生大量的垃圾專利，浪費(fèi)時(shí)間和精力。
一個(gè)企業(yè)應(yīng)該對(duì)自己行業(yè)內(nèi)的基本專利狀況及專利狀況有十分明確的認(rèn)識(shí)。從而找到技術(shù)突破口，排除他人專利障礙，確立自己的專利優(yōu)勢(shì)，贏得市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)。
總的來(lái)說(shuō)，專利無(wú)論是對(duì)于企業(yè)還是個(gè)人都是非常重要的。企業(yè)一定要對(duì)自己的商標(biāo)、專利、知識(shí)產(chǎn)權(quán)等進(jìn)行一個(gè)系統(tǒng)的分類并做好管理，同時(shí)重視知識(shí)產(chǎn)權(quán)的保護(hù)。
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